Фотохромная линза SETO 1.60 SHMC

1) Что такое центрифугирование?

Центрифугирование — это процедура, используемая для нанесения тонких однородных пленок на плоские подложки.Обычно небольшое количество материала покрытия наносится на центр подложки, которая либо вращается с низкой скоростью, либо не вращается вообще.Затем подложку вращают со скоростью до 10 000 об/мин для распределения материала покрытия под действием центробежной силы.Машина, используемая для центрифугирования, называется центрифугирующей машиной или просто вращающейся машиной.
Вращение продолжают, пока жидкость отталкивается от краев подложки, пока не будет достигнута желаемая толщина пленки.Применяемый растворитель обычно летуч и одновременно испаряется.Чем выше угловая скорость вращения, тем тоньше пленка.Толщина пленки также зависит от вязкости и концентрации раствора и растворителя.[2]Новаторский теоретический анализ центрифугирования был предпринят Эмсли и др. и был расширен многими последующими авторами (в том числе Уилсоном и др.,[4] которые изучали скорость растекания при центрифугировании; и Данглад-Флорес и др., [5], которые нашли универсальное описание для прогнозирования толщины осаждаемой пленки).
Спиновое покрытие широко используется при микропроизводстве функциональных оксидных слоев на стеклянных или монокристаллических подложках с использованием золь-гель-прекурсоров, где его можно использовать для создания однородных тонких пленок наноразмерной толщины.[6]Его интенсивно используют в фотолитографии для нанесения слоев фоторезиста толщиной около 1 микрометра.Фоторезист обычно вращается со скоростью от 20 до 80 оборотов в секунду в течение 30-60 секунд.Он также широко используется для изготовления плоских фотонных структур из полимеров.
Одним из преимуществ нанесения тонких пленок методом центрифугирования является однородность толщины пленки.Благодаря самовыравниванию толщина варьируется не более чем на 1%.Однако нанесение методом центрифугирования более толстых пленок полимеров и фоторезистов может привести к образованию относительно крупных краевых валиков, планаризация которых имеет физические ограничения.